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DMD数字掩模光刻机 LTG-DMD
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DMD数字掩模光刻机 LTG-DMD

LTG-DMD数字掩模光刻机无需制造掩模板,采用DMD数字芯片掩模可在样品表面曝光通过计算机编辑的任意图案。结合精密的电控位移台,可以实现自动调平、自动对焦、多图拼接等功能。
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产品描述

LTG-DMD数字掩模光刻机无需制造掩模板,采用DMD数字芯片掩模可在样品表面曝光通过计算机编辑的任意图案。结合精密的电控位移台,可以实现自动调平、自动对焦、多图拼接等功能。

主要特点

应用领域

● 无需样本制备

● 中小规模集成电路

● 非接触式测量

● 光电子器件

● 实时检测、无需等待

● 液晶微纳光学

● 多元素分析

● 偏振防伪

● 定制开发

● 半导体元器件

技术规格书

曝光光源

405nm or 365nm LED

曝光不均匀性

<5%

最大样品尺寸

20x20mm

单幅曝光尺寸

0.095英寸(10X镜头)

最小分辨率

2um(10X镜头)

镜头倍率

2X、5X、10X

自动对焦精度

1um

自动调平精度

10'

可选功能

偏振态控制

偏振对比度

>10000:1

线偏方向角精度

0.2°

外观尺寸

800x550x680mm

联系方式:025-68037576 15366004857

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联系地址

南京经济技术开发区恒园路1号
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人事管理: 025-68037586
商务洽谈: 025-68037528
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